仝玉莲
,
时方晓
材料与冶金学报
doi:10.14186/j.cnki.1671-6620.2016.04.011
以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的.通过直流磁控反应溅射技术在玻璃(或单晶硅)表面制备(Al,Ti)N薄膜作为低辐射镀膜玻璃的内层介质层,在此基础上进行单因素变量分析铝靶功率、钛靶功率、氮气流量和溅射时间对薄膜可见光透过率、表面粗糙度的影响以及测定最优条件下薄膜的结晶状态、表面形貌和元素含量.结果表明,当铝靶功率为100W、钛靶功率为80 W、氮气流量为2.5 ml/min、溅射时间为90 min时可见光范围内透过率均在96％以上,表面粗糙度11.3 nm,膜基结合力强,膜质优异适宜低辐射镀膜玻璃功能膜的附着.
关键词:
建筑
,
低辐射镀膜玻璃
,
直流反应溅射
,
(Al,Ti)N薄膜
罗乐平
,
赵青南
,
刘旭
,
丛芳玲
,
顾宝宝
,
董玉红
,
赵杰
硅酸盐通报
通过选取室温、100℃、200 ℃三个不同基片温度制度来探讨基片温度对氧化钨薄膜电致变色循环寿命的影响.实验结果表明:当基片温度由室温提高至100℃后,氧化钨薄膜的循环寿命有较大的改善,循环次数由806次提高至3000次.当基片温度由100℃提高至200℃时,循环寿命反而有所衰退,循环次数由3000次减少至1000次.
关键词:
直流反应溅射
,
氧化钨薄膜
,
基片温度
,
循环寿命
,
光学调制幅度
